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真空熔煉爐
簡(jiǎn)要描述： 真空熔煉爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備
生產(chǎn)地址：上海- 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間：2024-10-16
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